优化红外薄膜镀膜工艺 硫化锌多层膜缺陷密度显著降低

发布时间:2017-10-09 来源: 光电技术研究所 专题: 材料研发 打印

环球塑化网 www.PVC123.com 讯:

  中国科学院光电技术研究所薄膜光学技术研究室在低缺陷密度红外薄膜制备工艺方面取得进展,通过优化红外薄膜的镀膜工艺,硫化锌/氟化镱多层膜的缺陷密度显著降低。

  红外薄膜的缺陷是影响红外薄膜光学性能和其稳定性的重要因素,受到国内外相关研究人员的关注。光电所研究团队通过优化沉积沉积速率、沉积温度和沉积方式,显著降低了多层红外薄膜的缺陷:多层红外薄膜的缺陷密度降低了一个数量级。采用低缺陷密度工艺参数制备的164nm高反射膜,反射率大于99.9%,吸收小于100ppm。

转载请注明:转载自环球塑化资讯 https://www.pvc123.com/news/
本文链接:https://www.pvc123.com/news/2017-10/376168.html
免责声明:本文"优化红外薄膜镀膜工艺 硫化锌多层膜缺陷密度显著降低"仅代表作者个人观点,与PVC123无关。环球塑化所转载的内容,其版权均由原作者和资料提供方所拥有!如因作品版权问题需要处理,请与我们联络。电话:0769-38998777 邮箱:pvc@pvc123.com 新闻投稿 新闻投稿